Мундарижа


Pe’zoelektrik yarim o‘tkazgichli monokristallar o‘stirish jarayonida kirishmalarning taqsimlanishi



Yüklə 1,68 Mb.
səhifə15/21
tarix10.12.2022
ölçüsü1,68 Mb.
#73589
1   ...   11   12   13   14   15   16   17   18   ...   21
BMI-3 (1)

Pe’zoelektrik yarim o‘tkazgichli monokristallar o‘stirish jarayonida kirishmalarning taqsimlanishi
Pe’zoelektrik yarim o‘tkazgichli monokristallarni o‘stirish jarayonida erituvchi moddani tanlash muhim ahamiyatga ega. Erituvchi modda sifatida pe’zoelektrik yarim o‘tkazgichli materialning o‘zi ishlatilsa, u holda kerakli material olish uchun: asosiy materialni uni ifloslantiruvchi kirishmalardan tozalash va pe’zoelektrik yarim o‘tkazgichli monokristall o‘stirish jarayonida kristall panjaraga ma’lum konsentratsiyaga ega bo‘lgan bir yoki ikkita kirishmani kiritish kerak bo‘ladi (Si) yoki (Ge).
Agar pe’zoelektrik yarim o‘tkazgichli material olishda erituvchi sifatida boshqa material olinsa, avval uni shu materialda eritib keyin kristallizatsiya jarayoni o‘tkaziladi. Bu holda bor bo‘lgan har xil kirishmalar eritmada va o‘sayotgan kristallda qayta taqsimlanadi.
Qattiq jismda har qanday kirishmaning eruvchanligi, qattiq jismning tarkibi va uning qaysi fazalar, qattiq jism, suyuqlik, gaz holati bilan muvozanatda bo‘lishi va umuman sistema ozod energiyasining minimal holi bilan aniqlanadi. Ozod energiya sistema holatiga bog‘liq bo‘lgani uchun harorat o‘zgarishi muvozanatni buzadi va mavjud fazalar tarkibi ham o‘zgaradi.
Agar erituvchi moddaning o‘zi bo‘lsa, bu holda o‘stirish jarayoni bir o‘zgarmas haroratda boradi va qattiq jism tarkibi kirishmalar konsentratsiyasiga va tabiatiga bog‘lik bo‘ladi. Erituvchi boshqa moddadan bo‘lsa, u holda asosiy moddaning kristallizatsiya jarayoni har xil haroratda bo‘lgani uchun uning tarkibi haroratga bog‘lik bo‘ladi va unga mutanosib o‘zgaradi. Kirishmalarning taqsimlanish jarayoni pe’zoelektrik yarim o‘tkazgichlarning kristallanish jarayonida aniqlovchi xususiyatlardan bo‘lib, ideal eritmalar nazariyasiga asosan SHredenger tenglamasi bilan aniqlanadi.
K q ℓn (Nak/Nac) q∆MAR(1/T – 1/Toa) (1)
bu erda: Nak va Nac – kirishmalarning qattiq va suyuq holatdagi konsentratsiyalari, keyinchalik ular Ckr. va Cc. bilan belgilangan. ∆MA – sof kirishmaning yashirin erish issiqligi, Toa – sof kirishmaning erish harorati, T – eritmaning erish harorati.
Kirishmaning taqsimlanish koeffitsienti K deb, o‘stirilgan kristalldagi kirishmalar konsentratsiyasining eritmadagi kirishmalarning o‘rtacha olingan konsentrapsiyasi nisbatiga aytiladi.
K q Ckr/Cc. (2)
Kirishmaga ega bo‘lgan yarim o‘tkazgichli pe’zoelektrik eritmaning kristallanish jarayoni. Bu jarayon uch xil bo‘ladi:
1 hol. Agar o‘sayotgan kristall va suyuqlik (eritma) tarkibi bir xil bo‘lsa, taqsimlanish koeffitsienti K q 1 va o‘sayotgan kristallda tarkib bir xil bo‘ladi.
2-hol. Agar kirishma erituvchining erish haroratini oshirsa (MY: silikat vismut kristalliga kremniy yoki germaniy qo‘shilgan hol), taqsimlanish koeffitsienti K>1 va Ckr.>Cc. Bu hol uchun o‘sayotgan kristall tarkibi o‘sish jarayonida kirishma bilan boyib boradi.


Yüklə 1,68 Mb.

Dostları ilə paylaş:
1   ...   11   12   13   14   15   16   17   18   ...   21




Verilənlər bazası müəlliflik hüququ ilə müdafiə olunur ©azkurs.org 2024
rəhbərliyinə müraciət

gir | qeydiyyatdan keç
    Ana səhifə


yükləyin