1.32-rasm. Kremniy asosidagi QE larining absolyut spektral sezgirligi. 1-3
legirlangan qatlam qalinligi ℓ ≥1,2 mkm bo‘lgan shaffoflantirilmagan
qatlamli element
Bunga sabablar:
1. Kirishmalar konsentratsiyasini yuqori darajada kiritish, man qilingan
soha kengligi Eg ning kamayishiga olib keladi va asosiy zaryad
tashuvchilarning effektiv konsentratsiyasi kamayada, teskari gradiyentli
elektr maydoni hosil bo‘lishiga olib keladi.
2. Frontal qatlamdagi asosiy bo‘lmagan zaryad tashuvchilarning
(teshiklarning) yashash davri τ keskin kamayib ketadi va ehtimol bir ns
(nanosoniyadan) oshmay qolishi mumkin.
1.33-rasm.
Kremniy asosidagi quyosh elementlarida umumiy yig‘ish
koyeffitsiyentining spektral o‘zgarishi (1), frontal qatlamning yig‘ish
koyeffitsiyentidagi hissasi (2), hajmiy zaryad qismining hissasi (3), baza
qismining xissasi (4).
Shuning uchun, teskari to‘yinish toki Io~ ni kamaytirish jarayonida
frontal
qatlam
qalinligini
kamaytirish
bilan
birga
kirishmalar
konsentratsiyasini birmuncha pasaytirish( ~2 10
17
sm-3 ga qadar) lozim, va
qatlam qarshiligining nisbatan ortishini to‘rsimon omik kontakt
topologiyasini optimallashtirish hisobiga kompensatsiya qilish mumkin.
Bu talablar ayrim texnologik va konstruktorlik yangiliklar hisobiga
«binafsha» QE lari ishlanmalarida qullanildi. Bular jumlasiga past haroratli
diffuziya (770-800 ºS) jarayonini uzatuvchi (transport) gaz oqimida
o‘tkazish, kirishmalarning nisbatan sirtdagi konsentratsiyasini kamaytirish (
~ 1017 sm¯³) gacha, qalin to‘rsimon kontakt yo‘lkalar sonini oshirish (8-10
yo‘lka/sm) va kengligini 50 mkm gacha kamaytirish va hokazolar kiradi.
Kremniy plastinalari yuzisiga ishlov berishning yangi – yuzadan nur
qaytarishni kamaytiruvchi va shu tufayli F.I.K.ni oshiruvchi usuli yaratildi.
Bunday QE larining frontal sirtida piramidasimon, teksturali relef hosil
qilinadi, va piramida yon tomonidan qaytgan nur, keyingi piramida yon
tomoniga tushib, kristall yuziga qaytariladi
Shuning uchun, antirefleksion qatlam olinmagan yuzada ham hosil
qilingan piramidasimon relef hisobiga optik yo‘qotishlarni 10 % gacha
kamaytiriladi. Qushimcha sifatida shuni aytish mumkinki, teksturalangan
sirt optik nurlanishning yutilish chuqurligini kamaytiradi. Natijada effektiv
yutilish koyeffitsiyenti α ning o‘sishi, yig‘ish koyeffitsiyentining va tok
zichligining oshishiga olib keladi.
An’anaviy tekis, planar konstruksiyadan tashqari keyingi paytlarda r-p
o‘tishining konstruksiyasi murakkab bo‘lgan QE, jumladan p-n o‘tishlari
yoritilayotgan sirtga perpendikulyar bo‘lgan elementlar ishlab chiqildi. Ular
yagona umumiy taglikda tayyorlangan yoki alohida kontaktlar bilan
birlashtirilgan mikro QE lardan tuzilgan bo‘lib, p-n o‘tishlarining
perpendikulyar joylashishi QE lariga qo‘shimcha imkoniyatlar yaratishi
mumkin. Bunday QE lari ketma-ket ulanganda bir necha V/sm gacha
kuchlanganlik olish mumkin va hamda ular yuqori yoritilganlik sharoitida
effektiv ishlashi mumkin.
Konstruksiyaning yana bir turi bu relef yuzali QE. Bu erda relef, xuddi
teksturalash jarayoni kabi, selektiv emirish hisobiga paydo qilinadi. Natijada
yuqoridagi frontal yuzadagi n+ - qatlam relef profilini takrorlaydi. Relefning
geometrik o‘lchamlarini har xil qilish mumkin. Nurlanishni qabul qiluvchi
sirtning optik yutilish koyeffitsiyenti teksturalangan yuza yutilish
koyeffitsiyentiga yaqin ilish mumkin.
Yuqorida keltirilgan quyosh elementlarining sifatlaridan yana biri –
perpendikulyar joylashgan p-n o‘tishlarning bir-biri bilan yaqin joylashishi
natijasida butun hajmda yuqori darajali fotosezgirlikka erishish imkoniyati
mavjudligidir. Agar baza qalinligi asosiy bo‘lmagan zaryad tashuvchilari
diffuzion yo‘li uzunligidan juda kam bo‘lsa, ya’ni w«L bo‘lsa, bazada
nurlantirish tufayli hosil bo‘lgan hamma zaryad juftliklari ajratilishi
mumkin. Relef tuzilmali namunali QE lari atmosferadan tashqari sharoitda
15 % dan ortik effektivlikka ega ekanligi aniqlangan.
Quyosh elementlarining optik va fotoyelektrik xarakteristikalarini
yaxshilashning yana bir imkoniyati – bu bazada maxsus usullarni qo‘llab
zarayadlarni tortuvchi elektr maydoni hosil qilish usulidir. Kremniy
asosidagi QE ning spektral sezgirligini spektrning qisqa to‘lqinli qismida
keskin oshirish imkoniyatlaridan biri, frontal sirtda maxsus yuzani
passivatsiya qiluvchi qatlamlar bilan yopishdir.
Bunday qatlamlar odatda kremniy oksidi, kremniy nitridi asosida olinadi.
Bunday qatlamlarda kiritilgan (vstroyenno‘y) elektr zaryadlari mavjud
bo‘ladi. Bu zaryadlar kremniyning yuzaki yupqa legirlangan qatlami bilan,
xuddi ayrim QE tuzilmalaridagi tortuvchi elektr maydonlari kabi,
legirlangan qatlam bilan ikki qatlamli nn+ yoki pp+ - tuzilma hosil qiladi.
Bu sirtda hosil bo‘lgan tuzilma effektiv sirt rekombinatsiya tezligini
kamaytiradi va ortiqcha zaryadlar yig‘ilishini yaxshilaydi. Asosan bu
yaxshilanish yuza yaqinida yutiluvchi qisqa to‘lqinli optik nurlanish
hisobiga bo‘ladi.
Keltirilgan effektni quyidagi misolda namoyish qilish mumkin.
Passivatsiya qiluvchi qatlam olingandan sung, odatda yig‘ish koyeffitsiyenti
va salt yurishi kuchlanishining qiymati ortadi.
Agar oddiy QE ning baza qatlami (r-tip kremniy misolida) notekis
legirlangan bo‘lsa va p-n o‘tish atrofida kirishmalar konsentratsiyasi uning
ichidagiga qaraganda kam bo‘lsa, u holda bazada ham elektrostatik maydon
hosil bo‘ladi va ortiqcha hosil bo‘lgan zaryad juftliklarini yig‘ishda yordam
beradi. Bu hodisa, birinchidan, teskari to‘yinish tokining oshishi hisobiga va
potensial tusiq qiymatining kamayishi hisobiga, U
sk
ni kamaytiradi,
ikkinchidan, kirishmalar konsentratsiyasi baza qatlami ichida nisbatan
oshirilganligi uchun asosiy bo‘lmagan zaryad tashuvchilarning diffuzion
yo‘li uzunligi (Ld) va yashash vaqti (τ) kamayadi.
QE bazasining xususiyatlari va uning element parametrlariga ta’si rini
tahlil qilish natijasida bazada katta qiymatli tortuvchi elektr maydoni hosil
qilish o‘rniga sunggi vaqtlarda yangi model element orqa tomonida orqa
kontakt yaqinida keskin izotip pp+ yoki nn+ o‘tishlar hosil qilish modeli
paydo bo‘ldi.
Yuqori samarali QE yaratish jarayonida xususiy o‘tkazuvchanlikka ega
bo‘lgan kremniyni ham ishlatish mumkinligi aniqlandi. Buning uchun uning
ikkala tomoniga n- va p- tip beruvchi kirishmalar diffuziya qilish kerak va
ma’lum masofada p-n o‘tish hosil qilish va boshqa tomonida ma’lum
gradiyentga ega bo‘lgan izotip potensial tusiq paydo qilinishi kerak.
p+ pp+ yoki p+ nn+ - tuzilmali QE lari olishda, uzoq masofaga ta’sir
etuvchi tortuvchi elektr maydoni hosil qilishga qaraganda, orqa tomondan
p
+
p yoki n+ n izotip to‘siq olish texnologiya nuqtai nazaridan osonroqdir
va amaliy tomondan izotip o‘tish olish bazada yig‘ish koyeffitsiyentini
oshirish uchun qulayroqdir. Qo‘shimcha kirishmalar kiritib orqa tomonda
olingan izotip to‘siq, orqa kontaktdan asosiy bo‘lmagan zaryad
tashuvchilarni qaytaradi va ularda Ld ning effektiv qiymatini oshiradi,
hamda baza-metall kontakt tuzilmasi chegarasidagi sirt rekombinatsiyasi
koyeffitsiyentini keskin kamaytiradi. QE ning teskari to‘yinish toki Io ham
birmuncha kamayadi. Orqa tomonida izotip o‘tishli QE larining ustunlik
tomoni baza qatlamida asosiy bo‘lmagan zaryad tashuvchilarining diffuzion
yo‘li uzunligi uning qalinligidan kattarok bo‘lganida yoki hech bo‘lmaganda
teng bo‘lgan sharoitda sezilarli bo‘ladi. Bu tenglik bajarilishi uchun YaO‘
material nisbatan tozaroq yoki yupqaroq bo‘lishi va L~d bajarilishi kerak.
p-i-n va p+-i-n+ tuzilmali elementlar uzun to‘lqinli diapazonda
nihoyatda katta sezgirlikka ega. Bu QE ning VAT ning shakli nihoyatda
to‘g‘ri turtburchakka yaqindir. Chunki ularda optik nurlanish bilan yoritilish
sharoitida element bazasidagi kuchlanishning omik pasayishi nolga intiladi,
ya’ni optik nurlanish ta’sirida yuqori Omli bazada muvozanatda bo‘lmagan
zaryad tashuvchilar muvozanatda bo‘lganlaridan ko‘proq hosil bo‘ladi.
Asosiy bo‘lmagan zaryad tashuvchilarning diffuzion yo‘li uzunligi yuqori
Omli baza materialida nisbatan kattaroq qiymatga ega bo‘lishi er atrofidagi
radiatsion kamarlarda ularning ishlash muddatini boshqa QE lariga
qaraganda birmuncha uzayishiga olib keladi.
Shu o‘rinda yana bir narsani qayd qilish lozim. Asosiy yutilish
chegarasidan tashqarida uzun to‘lqinli nurlanishga shaffof bo‘lgan kremniy
va boshqa YaO‘ materiallar asosidagi Quyosh elementlarining kelajagi
istiqbollidir. Bunday QE tayyorlash imkoniyati hozir ham mavjud bo‘lib, u
nisbatan tozaroq materiallarning asosiy fundamental yutilish chegarasidan
tashqarida nisbatan shaffofligiga asoslangandir. Ammo, QE bazasi yuqorida
qayd qilingan nisbatan toza tayyorlanishiga qaramay uning yuqori frontal
qatlamida kirishmalar konsentratsiyasi deyarli materialning chegaraviy
eruvchanligiga qadar kiritilishi, shu qatlamda katta to‘lqin uzunligiga ega
bo‘lgan optik nurlanishning ko‘proq yutilishi yoki akslanishiga olib keladi.
Legirlangan yupqa frontal qatlamda asosiy bo‘lmagan zaryad
tashuvchilarning diffuzion yo‘li uzunligi Ld va yashash davri τ
qiymatlarining nisbatan kichikligi shu qatlam qalinligini 0,15-0,5 mkm
diapazonda olishni taqozo etadi. Shu qalinlikdagi qatlamda quyosh optik
nurlanishining infraqizil spektridagi yutilishi (ya’ni, 1,1 – 2,5 mkm
diapazonida) odatda 1-3 % oshmaydi. Shunday qilib, r-p o‘tish chuqurligini
kamaytirish hozirgi zamon QE uchun xarakterli bo‘lib, bu usul asosiy
yutilish chegarasidan tashqarida quyosh spektriga shaffof bo‘lgan
elementlar olish imkoniyatini kremniy materiali asosida yaratish
mumkinligini ko‘rsatadi.
Qolgan yana ikkita to‘siq – orqa tomondagi yuzani butunlay qoplovchi
kontaktda quyosh nurlanishining to‘la yutilishi va undan nisbatan
to‘laligicha qaytarilish hodisasi – orqa kontaktni to‘rsimon shaklli qilish va
shu tomonda ham qalinligi 0,3-0,4 mkm bo‘lgan akslantiruvchi oksid
qatlamlar hosil qilish orqali echilishi mumkin. 1,1 mkm dan boshlab IQ
sohada shaffof va orqa kontakti to‘rsimon shakldagi quyosh elementlari
kremniy, galliy arsenidi va yupqa qatlamli CuS – CdS geteroo‘tishli
tuzilmalarda yaratildi. hisoblarga qaraganda geostatsionar orbitalar
sharoitida bunday QE larini ishlatish natijasida harorat nisbatan 10-15 ˚S
pastroq va elektr quvvatini 5-7 % oshirar ekan. Fotoaktiv bo‘lmagan uzun
to‘lqinli IQ nurlanishni QE tuzilmasidan nafaqat o‘tkazib yuborish, balki
to‘laligicha qaytarish ham mumkin. Buning uchun, quyosh elementining
orqa tomonida IQ nurlanishni qaytaruvchi ko‘zgusimon kontakt olish kerak.
Bunday kontaktni olish uchun Ag, Al, Cu qoplamalarni vakuumda uchirish
yoki elektroximiyaviy usulda olish imkoniyati mavjud.
Quyosh elementi samaradorligini oshirishga imkon beradigan yana bir
usul – bu ikki tomonlama sezgir QE tuzilmasini ishlatishdir. Bu tuzilma, ikki
xil yuqorida qayd qilingan, IQ spektr sohasida shaffoflikni paydo qilish va
element orqa tomonida olingan izotip o‘tish bilan mushtarak holda
birlashtirish natijasida 12 - rasmda ko‘rsatilgan n+pp+ yoki p+ nn+ tizimli
QE lari hosil qilishdan iboratdir.
Nisbatan katta solishtirma qarshilikka ega bo‘lgan kremniy asosidagi
ikki tomonlama sezgir QE bazasi qalinligini nisbatan kamaytirish yoki
diffuzion yo‘li uzunligi nisbatan katta bo‘lgan materiallar ishlatish
natijasida, element tuzilmasi frontal tomondan tushayotgan optik
nurlanishni qanday effektivlikda elektr energiyasiga aylantira olsa, orqa
tomondan tushayotgan nurlanishni ham shunday effektivlikda aylantira
olishi aniqlangan. Element orqa tomonidan tuzilmaga izotip o‘tishlarni
kiritish ikki tomonlama sezgir QE tuzilmasida orqa tomondagi sirt
rekombinatsiya koyeffitsiyentini keskin kamaytirib (L/d>1), yig‘ish
koyeffitsiyentini, orqa tomondan nurlanish tushgan hol uchun, frontal
tomondan nurlanish tushish kattaligiga qadar ko‘tardi.
Ikki tomonlama sezgir QE tuzilmasi samaradorligini oshirish uchun
uning bazasini, oddiy element bazasiga nisbatan yuqori Omli bo‘lishi kerak.
Misol, odatda oddiy QE tuzilmasi uchun baza odatda 0,5-1,0 Om·sm
kremniydan tayyorlansa, ikki tomonlama sezgir elementlar uchun baza
qarshiligi 7,5-10 Om sm va undan ham yuqori olinadi.
Dostları ilə paylaş: |