Mavzu: ims tayyorlash jarayoni. Reja

fotorezist deyiladi. Fotorezist yordamida namuna sirtida IMS ning topologiyasi – ya’ni elementlarining joylashish o’rni hosil qilinadi.
3. Kremniy plastina sirtiga fotoshablonni joylashtirib ekspozisiya qilish (ultrabinafsha nurlanish bilan ishlov berish).
4. Fotorezistorning polimerlashmagan qismi olib tashlanib,
alohida sohalarga «darcha»lar ochish va bu sohada donor aralashma diffuziyasini olib borish. Bu jarayonlar natijasida n+ soha hosil qilinadi.
5. Yarim o’tkazgich plastina sirtiga n-epitaksial qatlam o’stirilib, uning sirtiga qaytadan oksid va fotorezist qatlami qoplanadi.
6. 3- va 4- bosqichlar yana bir karra takrorlanadi, faqat bu gal diffuziya natijasida izolyasilovchi p-n o’tish hosil qilinadi.
7. Ushbu bosqichda tranzistorning bazasi va epitaksial qatlamga akseptor aralashma kiritilib rezistor sifatida ishlatiladigan soha hosil qilinadi.
8. Tranzistorning kollektor va emmiter sohalarini hosil qilish va ulardan elektrodlar chiqarish uchun yangi ―darcha‖lar ochiladi va donor aralashma diffuziyalanadi.
9. Emmiter, baza, kollektor va rezistordan elektrodlar chiqarilib, sxemaga binoan o’zaro ulanadi.