1-2 laboratoriya ishi Ishdan maqsad: Integral mikrosxemalarin tayyorlanishi va texnologiyalarini o‘rganish. Ims tayyorlash texnologiyasi va klassifikatsiyasi bilan tanishish. Integral mikrosxema (ims)

Yarimo‘tkazgich IMSlar yaratishda texnologik jarayon va operatsiyalar
Yarimo‘tkazgich IMSlar tayyorlash uchun asosiy material bo‘lgan - kremniy monokristal quymalari olishdan boshlanadi (Choxralskiy usuli). Hosil bo‘lgan kremniy quymasi n– yoki r–turli elektr o‘tkazuvchanlikka ega bo‘ladi. Quyma uzunligi 150 sm, diametri esa 150 mm va undan katta bo‘lishi mumkin. Zonali eritish usulida monokristal ifloslantiruvchi kiritmalardan qo‘shimcha tozalanadi.
Epitaksiya. Epitaksiya jarayoni asos sirtida uning kristall tuzilishini takrorlovchi yupqa monokristal ishchi qatlamlar hosil qilish uchun ishlatiladi.
Gaz fazali va suyuq fazali epitaksiya usullari keng tarqalgan bo‘lib, ular monokristal asos sirtida n– yoki r–turli o‘tkazuvchanlikka ega bo‘lgan epitaksial qatlamlar hosil qilish imkonini beradi.
Termik oksidlash. Termik oksidlash – kremniy sirtida oksid (SiO2) qatlam (parda) hosil qilish maqsadida sun’iy yo‘l bilan oksidlashdan iborat jarayon. U yuqori (1000÷1200) 0S temperaturalarda kechadi.

2.1.-rasm. IMS tuzilmasi
Fotolitografiya - yarimo‘tkazgich plastinadagi metall yoki dielektrik pardalar sirtida ma’lum shakldagi lokal sohalarni hosil qilish jarayoni. Ushbu sohalar kimyoviy yemirishdan himoyalangan bo‘lishi shart. Fotolitografiya jarayonida ultrabinafsha nur ta’sirida o‘z xususiyatlarini o‘zgartiruvchi, fotorezist deb ataluvchi, maxsus moddalar ishlatiladi.

2.2.-расм. Фоторезист тузилмаси

Фоторезист оксидланган кремний пластинаси сиртига суртилади ва кварц шиша ниқоб орқали ёритилади. Ниқоблар шаффоф ва шаффоф эмас соҳаларга эга бўлгани учун фоторезистнинг маълум соҳаларига ёруғлик (ультрабинафша нур) таъсир этиб, унинг хусусияти ўзгартирилади. Бундай ниқоблар фотошаблонлар деб аталади.

2.3.-rasm. Fotoshablon tuzilmasi

2.4.-rasm.Yorug‘lik ma’sir etmagan fotorezist olib tashlangan plastina.



2.5.-rasm. Kremniy (SiO2)oksidi yemirilishi



2.6.-rasm. Fotorezistni olib tashlash

IMS tayyorlashda fotolitografiya jarayonidan bir necha marta (5÷7 marta) foydalaniladi (negiz qatlamlar, emitterlar, omik kontaktlar hosil qilishda va x.z.). Bunda har gal o‘ziga xos “rasm”li fotoshablonlar ishlatiladi.

Legirlash - yarimo‘tkazgich hajmiga kiritmalarni kiritish jarayoni. IMSlar tayyorlashda legirlash sxemaning aktiv va passiv elementlarini hosil qilish hamda zarur o‘tkazuvchanlikni ta’minlash uchun kerak. Diffuziya yordamida legirlash butun kristall yuzasi bo‘ylab yoki niqobdagi tirqishlar orqali ma’lum sohalarda (lokal) amalga oshiriladi.
Ion legirlash yetarli energiyagacha tezlatilgan kiritma ionlarini niqobdagi tirqishlar orqali kristalga kiritish bilan amalga oshiriladi. Ion legirlash universalligi va oson amalga oshirilishi bilan xarakterlanadi. Ionlar tokini o‘zgartirib legirlovchi kiritmalar konsentratsiyasini, energiyasini o‘zgartirib esa – legirlash chuqurligini boshqarish mumkin.
Yemirish - yarimo‘tkazgich, uning sirtidagi oksidlar va boshqa birikmalarni kimyoviy moddalar hamda ularning aralashmalari yordamida eritib tozalash jarayoni.
Yemirish yarimo‘tkazgich sirtini tozalash, oksid qatlamda “darcha”lar ochish va turli ko‘rinishga ega bo‘lgan “chuqurchalar” hosil qilish uchun qo‘llaniladi.
Yarimo‘tkazgich sirtini tozalash va “darcha”lar hosil qilish uchun izotrop yemirishdan foydalaniladi, bunda yarimo‘tkazgich barcha kristallografik yo‘nalishlar bo‘ylab bir xil tezlikda eritiladi.