Mavzu: ims tayyorlash jarayoni. Reja

IMS ni loyihalashning asosiy jihatlari:
IMS ni loyihalash jarayonida asosiy elementlarning parametrlari aniqlanib, yuzaga kelishi mumkin bo’lgan zararli sig’im va oquvchanlik toklarining oldini olish choralari ko’rib chiqiladi. IMS loyihalashda bir yo’la bir necha element hosil qilinishi sababli ularning texnologiyaviy parametrlari birgalikda hisobga olinishi kerak, ya’ni ularning geometrik o’lchamlari, diffuziya jarayonlarining harorati, elementlarning kristallda joylashish topologiyasi o’zaro bog’liq holda loyihalanishi lozim.
IMS loyihalashning o’ziga xos jihatlari quyidagilardan iborat:
1. Hozirda IMS lar EHM larda loyihalanadi. Buning afzalligi shundaki, bunda maket-prototip tayyorlash zarurati bo’lmaydi. Deyarli barcha texnologiyaviy jarayonlarni dasturlash imkoniyati mavjud. Boshqacha qilib aytganda, berilgan
xarakteristikalarga ega bo’lgan IMS ni yaratish va uning parametrlarini nazorat qilishni modellashtirish mumkin.
2. IMS da deyarli hamma elementlar o’rnida aktiv elementlar ishlatiladi. Masalan, diod o’rnida bipolyar tranzistorning p-n o’tishlaridan biri ishlatilishi mumkin.
3. IMS loyihalash jarayonida issiqlik turg’unligini, kam quvvat sarfini ta’minlash imkoniyatlari mavjud.
4. Hozirgi kunda IMS lar yaratish, ularning parametrlarini nazorat qilish hamda tarkibiy va elektr sxemalarini modellashtirishning katta dasturiy bazasi yaratilgan bo’lib, bu yanada murakkabroq va mukammalroq IMS lar yaratish imkonini beradi.
IMS ni yaratish texnologyasining asosiy bosqichlari.
Yarim o’tkazgichli IMS ni ishlab chiqarish loyiha natijalari asosida aniqlangan parametrlarga ega bo’lgan elementlarni yaratishdan iborat bo’lgan quyidagi fizik – kimyoviy jarayonlarni o’z ichiga oladi:
1. Yarim o’tkazgich namunani IMS yasash uchun tayyorlash jarayonlari;
2. Fotolitografiya jarayoni;
3. Diffuziya;
4. Epitaksiya;
5. Termik oksidlash;
6. Ion legirlash;
7. Metallash va boshqa yakunlovchi bosqichlar;
Quyida keltirilgan tizimda IMS ni ishlab chiqarish jarayonlari uni loyihalashdan to ishlatishga yaroqli tayyor mahsulot olishga qadar bo’lgan ketma-ketlikda aks ettirilgan.
IMS yasash uchun tayyorlash :
Bu bosqich quyidagi jarayonlarni o’z ichiga oladi:
a) kremniy monokristallini o’stirish;
b) uni olmos keskich vositasida disklarga kesish;
v) korund, volfram karbidi yoki olmos kukuni ko’rinishidagi obraziv yoki ultratovush yordamida namunaga mexanik ishlov berish;
g) sirka kislotasi yoki azot kislotasida yuvib, sayqallash;
d) namunaning sayqallangan sirtiga n yoki p – turdagi epitaksial qatlam o’stirish va SiO2 muhofaza qatlamini hosil qilish.
Fotolitografiya jarayoni:
Yarim o’tkazgich plastina sirtiga loyihalangan IMS ni hosil qilish uchun loyiha natijasida olingan fotoshablon–fotonusxa shaklini tushirish uchun fotolitografiya o’tqaziladi.
Quyida fotolitografiya jarayonining bosqichlari n-p-n tranzistor hamda diffuziyaviy rezistordan iborat sxemani yaratish misolida keltirilgan
1. Zarur parametrlarga ega bo’lgan kremniy plastinasini tayyorlash; p – Si
2. Kremniy sirtida SiO2 va fotorezist qatlamini hosil qilish.
Yorug’lik ta’sirida eruvchanligi o’zgaruvchi kislota va ishqorlar ta’siriga chidamli bo’lgan yorug’likka sezgir moddaga