12.2-rasnu Uglerod nanotrubkasi.
0
‘tuvchi metallar lantanoid va aktionoid atomlaridan tashkil
topgan magnit klasterlari katta qiziqish uyg‘otadi. Bu klasterlar o ‘z
magnit momentiga ega, bu esa tashqi magnit maydoni yordamida
212
xossalarini boshqarish imkoniyatini beradi. Bunga yuqori yelkali
metallografik molekula misol boiadi:
Мпп
0
12(СНзСОО)х6(Н2
0
)
4
.
Kvant kompyuterlari protsessorlarini loyihalashda nanomagnitlar katta
ahamiyat kasb etadi. Bundan tashqari, kvant tizimi tadqiqoti bistabillik
va gisterezis hodisasi aniqlandi. Agar molekulalar orasidagi masofa 10
nanometr ekanligini hisobga olsak, bu tizimda xotira zichligi har
kvadrat santimetrga
1 0
gegabaytni tashkil etadi.
12
3
.
Qiyin eriydigan metallarni vodorod muhitida
plazmakimyoviy tiklash
0 ‘zbekiston Respublikasi metallurgiya sanoatining rivojlanishi
bevosita yuqori ishlash xossalariga ega boigan konstruksion material-
lar yaratish bilan bogiiq. Yuqori texnologiyalar yordamida plazma
kimyoviy usulda olingan ultradispers kukunlar asosidagi yangi mate-
riallami ishlab chiqarishga joriy etish bu sohaning dolzarbligini yana-
da oshiradi. Konstruksion, asbobsozlik va boshqa materiallar yaratish-
da bosh elementlardan bin hisoblangan volframning ultradispers ku-
kunlari (UDK)ni plazmokimyoviy olish sohasida m aium yutuqlarga
erishilgan. Texnologik jarayonlarda yirik donali kukunlami UDKlar-
ga almashtirish xomakilami pishirish haroratini pasaytiradi va bir xil
mayda donali strukturaga ega boigan buyumlami olish imkoniyati
yaratiladi. Ammo ultradispers kukunlaming fizikaviy, kimyoviy va
texnologik xossalari hali to iiq o ‘rganilmagan. Bular jumlasiga zichla-
nishning ta ’siri oqibatida sodir boiadigan jarayonlar, natijada fizika
viy hamda kimyoviy, yuza fazaviy tarkibi va zarra hajmi bir tekis
boim asligini aytish mumkin. Istiqbolli plazma texnologiyasini sa-
noatda tatbiqini jadallashtirishda yuqorida ko‘rsatilgan muammolar
bilan birgalikda, jarayonni intensiv rivojlanish uchun xizmat qiladigan
bu kattaliklami aniq oichashda to‘siq boiayotgan ba’zi metrologik
qiyinchiliklar ham yangi texnologiyalami rivojlanishiga to‘sqinlik
qilmoqda Respublikada yaxshi ish unumi(300 kg/soat)ga ega boigan
volframning UDKlarini vodorod muhitida plazmakimyoviy tiklovchi
yuqori texnologik (PUV-300) qurilmasining mavjudligi, biroq bu
qurilmaning konstruktiv-texnologik modernizatsiyalash kerakligi bu-
gungi kunning zarurriyatini belgilaydi. Plazmaviy qurilmada olingan
yuqori dispers kukunlardan buyumlar tayyorlanganda ishlab chiqarish
unumdorligining keskin ortishidan tashqari ishlash xossalarining
213
ortishi, tiklash jarayonida va keyingi qayta ishlash jarayonlarida
energiya sarfi kamayadi. Optimal konstruktorlik va texnologik
jihozlangan
plazmaviy jarayonlar atrof-muhitga ta ’siri sezilarsiz
bo‘lishi bilan birga energiya va resurstejamkor hisoblanadi. Xulosa
qiladigan bo‘lsak plazmaviy metallurgiya istiqbolli ekanligi ma’lum
bo‘ladi. Adabiyotlar tahlili shuni ko‘rsatdiki, hozirgi vaqtda plazma-
kimyoviy uslubdan foydalanib ko‘pgina qiyin eriydigan metallaming
ultradispers kukunlarini olishning imkoniyatlari ko‘rsatib berilgan.
Ko‘pgina davlatlarda o ‘tkazilgan tadqiqotlaming natijalari yuqori
ishlash tasniflariga ega bo‘lgan konstmksion, asbobsozlik va boshqa
materiallami ishlab chiqarishda, qiyin eriydigan metallarning ultradis
pers kukunlaridan foydalanishning real imkoniyatlari mavjudligidan
darak bermoqda. Qiyin eriydigan metallaming ultradispers kukun
larini olish va ulami ishlatish, dunyoda XXI yuz yillikda ilmiy-texnik
rivojlanishni belgilab beradigan yo‘nalish deb qaralmoqda. Disperslik
moddaning xossalarini belgilaydigan muhim parametrlaridan biri
hisoblanadi. Disperslik natijasida yuzalar rivoji qo‘shimcha energiyani
vujudga keltiradi, undan qattiq jism lar ishtirokidagi jarayonlarda,
xususan ulami kompaktlashda qoMlash foydali. Bugungi kunda,
alohida fizikaviy, kimyoviy va texnologik xossalarini saqlashni
ta ’minlaydigan va yuqori ishlovchanlik xossalami saqlanishini
ta ’minlaydigan va yuqori turg‘unlikka ega materiallami yaratishda,
toza metallar olish imkoniyatlarini bemvchi plazma texnologiyasi
bosh rolni o ‘ynaydi. Mavjud yuqori texnologiyani modemizatsiyalash
asosida rivojlantirish uchun PUV-300 qurilmasi yangi reaktoming
geometrik va texnologik parametrlari ilmiy asoslandi.
0
‘tkazilgan
nazariy hamda eksperimental tadqiqotlar va olingan natijalaming
tahlili asosida birinchi marta kompleks ilmiy-texnik va texnologik
yechimlar va mashinasozlikda yuqori texnologik jarayonlami bundan
keyingi rivojlanish yo‘llarini belgilovchi, ilmiy tadqiqotlaming
rivojlanishi va kengayishi, umuman olganda, iqtisodiyot tarmoqlari
uchun muhim ahamiyatga ega bo‘lgan tavsiyalar ishlab chiqilgan.
PUV-300 plazmaviy tiklash qurilmasi seriyali plazmaviy qurilma-
laming bosh namunasi bo‘lib « 0 ‘zQ Q 0 ‘ChMK» OAJda ishlatilmoq-
da. Qurilma umumiy ko‘rinishi va ishlash prinsipi 12.3-rasmda
keltirilgan.
214
215
|