Zbekiston respublikasi


Zamonaviy elektronika elementlari plenkalarini eritmalardan o‘stirish usullari



Yüklə 0,94 Mb.
səhifə26/31
tarix04.04.2022
ölçüsü0,94 Mb.
#54715
1   ...   23   24   25   26   27   28   29   30   31
Mavzu Donar va Akseptor aralashmali yarimo`tkazgichlar mavzusin

Zamonaviy elektronika elementlari plenkalarini eritmalardan o‘stirish usullari

Zamonaviy elektronika elementlarini plenkalarini eritmadan o‘stirishning ayrim usullarini qisqacha ko‘rib o‘tamiz.

1)To‘yintirilgan eritmadan yo‘naltirilgan kristallizatsiya usuli. Birikmali yarim o‘tkazgichlar o‘stirish usullaridan biri bo‘lib hisoblanadi. AV birikmali yarim o‘tkazgichli materialni o‘stirish uchun uch sohali pechdan foydalaniladi. Kvarsdan yasalgan (oldindan havosi so‘rilgan) ampulaga uchmaydigan A komponent va tozalangan uchadigan V komponenta kiritilgan. Havosi so‘rilgandan so‘ng, ampula berkitilib uch sohali pechga kiritiladi. Pechning harorati T1 dan eritmada V komponentaning ma’lum bug‘ bosimini hosil qilishi uchun T2 gacha ko‘tariladi. Uchinchi pechning harorati T3 bo‘lib, u ikkinchi pech bilan T2-T3 gradient hosil qiladi. Konteynerni ma’lum tezlikda mexanik siljitish natijasida T2-T3 gradient ta’sirida yo‘naltirilgan kristallanish jarayoni hosil qilinadi.

2) Gradientli sohali o‘stirish usuli. Bu usul asosan avval sintez qilingan epitaksial qatlamlar olish uchun ishlatiladi. O‘stirish qurilmasi konstruktiv birlashtirilgan ikki qismdan iborat bo‘ladi. O‘stirish uchun taglik vazifasini bajaradigan yarim o‘tkazgich joylashgan sohada bir jinsli harorat olish vazifasini bajaruvchi birinchi pech va yuqorida joylashgan ikkinchi pech vazifasini bajaruvchi isitish lampasi (nur qaytargichi bilan birga)dan iborat. Ikkinchi pechni yoqish natijasida yarim o‘tkazgichli taglik ustida yuqoriroq harorat hosil bo‘ladi, ya’ni avvaliga T1 bo‘lgan bo‘lsa, taglik yuzasida T2 hosil qilinadi va ayirma T2-T1 ga teng bo‘ladi va birinchi usulga oid jarayonlar hosil bo‘ladi.




Rasm 2.6. Pe’zoelektrik yarim o‘tkazgichli epitaksal plenkalarni binar birikmalarni noizotermik epitaksiya usuli bilan ko‘p qatlamli qilib o‘stirish usuli.

Noizotermik epitaksiya usuli. Usulning asosiy g‘oyasi ma’lum bir haroratda pe’zoelektrik yarim o‘tkazgichning kristaliga kontaktlar o‘rnatish maqsadida ma’lum erituvchi yordamida eritmasi tayyorlanib olinadi va u tuyintirish holiga olib kelinadi. So‘ngra o‘stirish uchun olingan taglik bilan eritma kontaktga keltiriladi va asta-sekinlik bilan ma’lum tezlikda sovitiladi (2.6-Rasm)

Natijada eritmadagi pe’zoelektrik yarim o‘tkazgichli material qatlami taglik ustiga uni tuzilmasini takrorlab o‘sadi. Etarli qalinlikka ega qatlam olingandan so‘ng eritma taglik ustidan olib tashlanadi va o‘sish to‘xtatiladi. So‘ngra qurilma uy haroratiga qadar sovitiladi. Bu usul bilan oddiy (Si,Ge) dan boshlab (Bi12GeO20 va Bi12SiO20) birikmali materiallarni olish mumkin.




Yüklə 0,94 Mb.

Dostları ilə paylaş:
1   ...   23   24   25   26   27   28   29   30   31




Verilənlər bazası müəlliflik hüququ ilə müdafiə olunur ©azkurs.org 2024
rəhbərliyinə müraciət

gir | qeydiyyatdan keç
    Ana səhifə


yükləyin