F. M. Şİrzadov tribotexniKİ avadanliq və vasiTƏLƏR

c
hemical 
v
apour 
d
eposition” olub, 
bu sözlərin baş hərifləri ilə adlandırılmışdır. 
CVD üsulu ilə səthə material çökdürmə zamanı bir 
və ya bir neçə uçucu birləşmələrdən ibarət olan 
reaksiya qazları mühitində hissələrin səthinə kimyəvi 
üsulla təbəqənin çökdürülməsi başa düşülür. Bu 
zaman qabaqcadan nəzərdə tutulmuş örtük materialı
qazformalı fazaya çevrilərək (əsasən yüngül uçucu 
metal birləşmələri – presursorlar - TiCl
2
, TiCl
4
, BCl
3
, 
Al
2
C
6
və s.), digər proses qazları ilə (O
2
, CH
4
, H
2
, CO
2
və s.) birlikdə reaksiya kamerasına sovrulur. 
Kameraya daxil olan bu qazlarla detalın səthinin 
qarşılıqlı təsirindən səthdə örtük təbəqəsi inkişaf edir. 
Reaksiyanı aktivləşdirmək üçün detal ilə birlikdə 
bütün kamera lazımi temperatura qədər qızdırılmalıdır 
(şək. 16.1.). 
Qısa olaraq, CVD üsulu ilə çökdürülən təbəqə qaz 
fazalı atmosferdə olan məqsədli elementlərlə detalın 
səthi arasındakı fiziki-kimyəvi proseslərin nəticəsində 

---

269 
əmələ gəlir. Bu proseslərin baş verməsi üçün detalın 
səthi müəyyən temperatura qədər qızdırılmalıdır. 
Şəkil 16.1. CVD qurğusunun iş prinsipi. 
CVD üsulunu geniş yayilmış PVD üsulu ilə 
müqayisəli şəkildə qiymətləndirmək üçun onların 
müsbət və mənfi tərəflərini nəzərdən keçirək: 
PVD üsuluna daxildir: 
1)
 
Ütünlükləri: 
-
geniş temperatur sahəsində örtük çökdürmənin 
mümkünlüyü və hətta otaq temperaturunda; 
-
yüksək çökdürmə dərəcəsi; 
-
ultra təmiz örtüyün alınması; 
-
ekoloji təmizliyi: heç bir ixrac və zəhərli qazlar.