Fizikaning hozirgi zamon ta’limidagi o’rni


ИЗУЧЕНИЯ СОСТАВА, МОРФОЛОГИИ И ЭЛЕКТРОННОЙ СТРУКТУРЫ



Yüklə 11,09 Mb.
Pdf görüntüsü
səhifə36/63
tarix18.05.2020
ölçüsü11,09 Mb.
#31289
1   ...   32   33   34   35   36   37   38   39   ...   63
Конференция - физика-PDFга


ИЗУЧЕНИЯ СОСТАВА, МОРФОЛОГИИ И ЭЛЕКТРОННОЙ СТРУКТУРЫ 

НАНОПЛЕНОК NiSi

2

, ПОЛУЧЕННЫХ НА ПОВЕРХНОСТИ Si (111) С 

ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ МЕТОДА ТВЕРДОФАЗНОГО ОСАЖДЕНИЯ  

 

А.К. Ташатов, Н.М. Мустафаева 

Каршинский госудраственный университет, Карши, Узбекистан 

e-mail: 


atashatov@mail.ru

  

 



В  данной  работе  приводятся  экспериментальные  результаты  по  изучению  состава, 

морфологии и электронной структуры нанопленок NiSi

2

, полученных на поверхности Si (111) 



с использованием метода твердофазного осаждения с последующим отжигом.  

Нанесение  пленок  Ni  на  поверхность  Si  осуществлялась  нагревом  Ni  электронной 

бомбардировкой. Скорость напыления пленок определялась предварительно с использованием 

метода ОЭС в сочетании с ионным травлением и она составляла ~ 0,5 Å/мин. Напыление атомов 

Ni,  прогрев  образцов,  исследования  их  состава  и  параметров  энергетических  зон  с 

использованием 

методов 

оже-электронной 

и 

ультрафиолетовой 



фотоэлектронной 

спектроскопии (ОЭС и УФЭС) и измерением интенсивности проходящего через образец света 

проводились  в  одном  и  том  же  приборе  в  условиях  сверхвысокого  вакуума  (Р=10

-7

  Па). 



Морфология  поверхности  изучалась  методами  растровой  электронной  и  атомно-силовой 

микроскопии (РЭМ и АСМ). Напыление Ni различной толщины (от 10 Å до 100 Å) проводилась 

при комнатной температуре кремния, при этом образовались сплошные аморфные пленки и на 

границе  раздела  Ni/Si  не  наблюдалось  заметной  взаимодиффузии  Ni  в  Si  и  Si  в  Ni.  После 

каждого цикла осаждения проводился прогрев. Заметная взаимодиффузия атомов, образование 

соединений между атомами Ni и Si и некоторая кристаллизация пленки и ее распад на островки 

наблюдалась начиная с Т = 550 – 600 К [1, 2].  

На рис. 1 приведена АСМ-изображения поверхности Si (111) с пленкой NiSi

2

 толщиной ~ 



50 Å (образец № 1). Видно, что пленка имеет островковый характер. Эти островки имеют форму 

конуса  (или  пирамиды)  и  их  высота  доходит  до  7  –  8  нм.  Анализ  РЭМ-картин  показал,  что 

островки  имеют  форму  многогранника  с  линейными  размерами  ~  0,2  –  0,3  мкм.  Расстояние 

между  центрами  этих  фаз  ~  0,8  –  1  мкм.  Наряду  с  крупными  островками  на  поверхности 

формируются  множество  мелких  островков  (фаз).  Дальнейшее  увеличение  толщины  пленок 

(времени  твердофазного  осаждения)  не  приводило  к  заметному  росту  высоты  основных 

островков. При этом наблюдалось увеличение поверхностных размеров крупных островков и 

увеличение трех размеров мелких островков. 

 

 

 



 

Рис. 1. АСМ - изображения 

поверхности Si (111) с пленкой NiSi

2

 



толщиной 50 Å. 

 

Рис. 2. Зависимость интенсивности I 



проходящего света от энергии фотонов для 

Si с нанопленкой NiSi

2

 толщиной h, Å: 1 – 50 



(образец № 1), 2 – 200 (образец № 4). 

“Fizikaning hozirgi zamon ta’limidagi o’rni”.  Samarqand 2019-yil 13-14 dekabr.

 

243 


 

На рис. 2 приведена зависимость интенсивности проходящего света I от энергии фотонов 

h



 для нанопленок  NiSi



2

/Si с толщиной 50  и 200 Å. В случае  h = 50 Å, резкое  уменьшение  

наблюдается при двух значениях  h

: 0,5 и 1,0 эВ. Первое уменьшение связано поглощением 



света на участках покрытых наноостровками  NiSi

2

, второе – на участках, не закрытых NiSi



2

Экстраполяция этих кривых к оси h



 показывает, что значение E

g

 для NiSi



2

 ~ 0,6 эВ, а для Si - 

~ 1,1 эВ. В случае сплошной пленки NiSi

2

 значение E



g

 составляет ~ 0,6 эВ. I резко уменьшается 

до нуля в интервале h

 = 0,5 – 0,6 эВ. 



В таблице 1 представлены режимы формирования ТФЭ пленок NiSi

2

/Si (111) и значения 



их удельного сопротивления. 

Таблица 1 

№ образца 

h

Ni



, Å 

h

NiSi2



, Å 

Т

эпит. 



Вид пленки 

, мкОм



см 




15 – 20 



35 – 40 

50 – 60 


80 

200 


50 

100 


150 

200 


550 

800 


850 

850 


900 

950 


островковая 

островковая 

островковая 

сплошная, н.о

сплошная, о



**

 

2



10

5



 

5



10

2

 



– 

100 


50 

*

 – неоднородная, 



**

 – однородная. 

Видно,  что  в  случае  островковой  пленки  значение 

  очень  высокая.  При  h



NiSi2

  =  200  Å 

формируется сплошная пленка, однако значение 

 немного больше, чем 



 пленки с толщиной 

550 Å. По-видимому, при h = 200 Å пока еще пленки не является однородной по толщине. 

Таким образом, на основе анализа экспериментальных результатов можно заключить  о 

том, что в процессе твердофазного осаждения Ni в Si в сочетании с отжигом на поверхности Si 

формируются  эпитаксиальные  нанопленки  NiSi

2

.  При  толщинах  h  ≤  150  Å  пленки  имеют 



островковый характер. Из-за близости параметров решетки  NiSi

2

  и  Si  на  границе  NiSi



2

/Si  не 


возникает  заметного  напряжения  и  следовательно  формируется  сравнительно  узкий 

переходной слой (50 – 60 Å). 

Литература 

1.  Алтухов  А.А.,  Жирнов  В.В.  Анализ  морфологии  и  стехиометрии  пленок  CoSi/Si(100), 

полученных  методами  ТФЭ  и  РЭ  //  Материалы  II-го  Всесоюзного  межотраслевого 

совещания “Тонкие пленки в электронике”: Москва-Ижевск. 1991. С. 15.  

2.  Эргашов  Ё.С.,  Ташмухамедова  Д.А.,  Умирзаков  Б.Е.  Получение  наноразмерных  фаз 

силицидов  металлов  в  приповерхностной  области  кремния  и  изучение  их  электронных 

структур  методом  прохождения  света.  Поверхность.  Рентгеновские,  синхротронные  и 

нейтронные исследования, 2017, № 4, с. 104–108. 

 

YORUG'LIKNING DINAMIK SOCHILISHI METODI ORQALI SUYUQLIKLARDAGI 

NANOSTRUKTURAVIY JARAYONLARNI O’RGANISH.  

 

1

L.M Sabirov, 



2

L.L Chaykov, 

1

SH.E Qarshiboyev, 



2

M.N Kirichenko, 

3

Sh.A.Kadirov 



1

Samarqand davlat universiteti

2

Rossiya Fanlar akademiyasi P.N.Lebedev nomidagi fizika institute, 



3

Urganch davlat universiteti 

 

Yorug’likning  dinamik  sochilishi  (YDS)  lazer  korrelatsion  spektroskopiyada  suyuqliklarda 



zarralar o’lchamini hisoblashda qo’llaniladi, Zarralar o’chamini shunday tanlash kerakki yorug’likning 

to’lqin  uzunligiga  teng  bo’lsin.  Suyuqlikdan  yorug’lik  nuri  o’tganda  elastik  (Releycha)  sochilish 

kuzatiladi. Yorug’likning dinamik sochilishida lazer nurlaridan foydalaniladi. O’chanadigan kattalik 

avtokorrelatsion funksiya hisoblanadi[1-3]. Bunda sochilgan yorug’ilik intensivligini vaqt o’tishi bilan 

o’zgarishini baholab borish lozim.  


“Fizikaning hozirgi zamon ta’limidagi o’rni”.  Samarqand 2019-yil 13-14 dekabr.

 

244 


 

 


  

  



1

d



i

i

d

d

i

G t

I t

t

t

I t I t

t

N





   

 

 



(1) 

Bu  yerda 

 

d

G t

-  avtokorrelatsion  funksiya, 



N

-zarralar  soni, 



d



I t

t

-  sochilgan  yorug’lik 



intensivligi. Yorug’likni dinamik sochilishi usulli hozirgi kunda kontaktsiz va operativ (o’lchash vaqti 

taqriban  60s)  suyuqlikda  ma’lum  o’lchamli  nanozarralar  va  makromolekulalarda  keng 

qo’llanilmoqda[1-4]. Dispersion zarralarning haotik Broun harakati mikraskopik fluktuatsiya hamda 

lokal konsentiratsiya va muhitning lokal birjinsli bo’lmagan sindirish  ko’rsatgichiga  sabab bo’ladi. 

Bunday  muhitdan lazer nuri o’tsa, nurning  bir qismi bunday  muhitda sochiladi. Sochilgan nurning 

intensivligining  fluktuatsiyasi  dispersion  zarralarni  lokal  konsentiratsiyon  fluktuatsiyasini 

tushuntiradi.  Diffuziya  koeffisienti  to’g’risidagi  ma’lumotlarni  intensivlik  korrelatsion  funksiyasini 

olish mumkin[1-3]. Avtokorrelatsiyon funksiyaning vaqt bo’yicha o’zgarishi quydagicha aniqlanadi.  

2

0

1



(

)

( )



(

)

li m



( )

(

)



t

t

g

I t I t

I t I t

d t

t



  







   

 

(2) 



Bu yerda I, t va (t+τ) vaqtlar oralig’idagi intensivlik (korrelatsion funksiyani to’planish vaqti) 

τ=0  vaqtda  avtokorrelatsion  funksiya  sochilishining  o’rta  kvadratik  I

2

  intensivligiga  teng.  Cheksiz 



vaqtda  korelatsiya  mavjud  emas  va  avtokorrelatsion  funksiya  sochilishi  intensivligining  o’rtacha 

kvadratik qiymatiga teng bo’ladi. 

2

2

( )



( ) (

)

( )



(

)

( )



g

I t I t

I t

I t

I t



 


  


  

  



   


 

(3) 


 

1-Rasm Intensivlikning relaksatsiya vaqtiga bog’liqligi 

Rasmda  sochilgan  yorug’lik  intevsevligini  vaqt  bo’yicha  o’zgarishi  a)  ma’lum  korrelatsion 

funksiya b) Elektr maydonni avtokorrelatsion funksiyasi, birinchi tartibli korrelatsin funksiya (maydon 

intensivligiga bog’liqligi-ikkinchi tartibli korrelatsion funksiyasi quyidagicha.  

 


*

1

( )



(

)

g



E

t E t



   



 

 

 



(4) 

Bu yerda E

*

 kompleks qo’shma qiymati.  



Photocor Runtime Report: Wed Jun 05 18:37:33 2019 

Constants 

Temperature, C : 23.2999992 

Solvent: Water(11) 

Viscosity, c

p

: 0.931420017 



Refractive index: 1.33258375 

Scatteting angle, deg: 45. 

Laser wavelength, ang: 6327.99988  

3 4 .5


l

 


2 8


e

 


 

Correlator specific parameters 

Sample time, s: 2.e-008 

Dust cutoff: 8193 

Number of channels: 288 

Accumulation time,s: 152.478515 

Mean signal intensity, Hz: 271769.313 

4

2 1 0


W

C

 



 

“Fizikaning hozirgi zamon ta’limidagi o’rni”.  Samarqand 2019-yil 13-14 dekabr.

 

245 


 

 

Lazer  nurlari  yuqori  darajali  kogarentligiga  ega.  Shuning  uchun  yorug’lik  interferensiyasi 



kuzatiladi, namunani turli joylardan kuzatiladi.Hosil bo’lgan hosilaviy maydon fotodektorning nisbiy 

orentatsiyasi va joylashuviga bog’liq[1-3].  



XULOSA 

Demak  yorug’likning  dinamik  sochilishi  usulli  bilan  tashqaridan  tushuvchi  zarralarni  kichik 

konsentratsiyalarda  (Gaus  statistikasini  buzilishi)  sochiluvchi  hajmdan  nurlanish  taqsimotining 

birjinslimasligi artefakt moda korrelatsion vaqtini aniqlash mumkin bo’ladi.  

Foydalanilgan adabiyotlar 

1.  Бункин  Н.Ф.,  Шкирин  А.В.,  Бурханов  И.С.,  Чайков  Л.Л.,  Ломкова  А.К.  Квантовая 



электроника44 (11), 1022 (2014) [Quantum Electron., 44 (11), 1022 (2014)]. 

2. Кириченко М.Н., Саноева А.Т., Чайков Л.Л. Кр. сообщ. физ.ФИАН43 (8), 32 (2016). 

3.  Кириченко  М.Н.,  Диссертация  на  соискание  ученой  степени  кандидата  физико-

математических наук. Москва – 2015. 

 

РЕДНИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ 

𝝅

𝟎



- МЕЗОНОВ И 

ɣ-КВАНТОВ ПРИ ВЫСОКИХ 



ЭНЕРГИЯХ. 

 

А. У. Абдурахимов, Б. М. Эргашев. 



Андижанский государственный университет. 

 

Как  известно,  болшое  число  экспериментальных  и  теоретических  работ  посвящено 



исследованию  множественного  образования  заряженных  и  нейтральних  частиц  в  физике 

высоких энергий 

Наряду  с  изучением  множественного  рождения  заряженных  частиц  не  менее  важным 

являются  изучения  множественного  образования  нейтральных 

𝜋-мезонов,  ɣ-квантов  и  их 

средние характеристики. 

В  статье  [1]  мы  рассматривали  образование,  корреляции  в  рождении 

𝜋

0



–мезонов  и 

заряженных частиц. 

Теперь  рассмотрим  зависомость  средней  множественности  нейтральных  пионов  от 

полной  энергии  S  в  системе  центра  инерции.  В  работе  [2]  была  предложена  формула  для 

вычисления среднего числа 

ɣ-квантов и 𝜋

0

 

- мезонов для рр-взаимодействий при 



р = (500 ÷

1500) ГэВ/с  



< 𝑛

𝛾

> =  4𝜋𝐴К



0

 𝑙𝑛 (𝑥


0

 √𝑆/𝐾


0

)   


 

 

 



(1) 

cо  следующими  значениями  параметров  А≈1,40  ГэВ

-1

,  k


0

=0,  162  ГэВ  и 

х

0

= 0,083.  Из 



формулы (1) для <

𝑛

𝜋



0

> имеем соотношение 



< 𝑛

𝜋

0



> = 2𝜋𝐴К

0

 𝑙𝑛 (𝑥



0

 √𝑆/𝐾


0

)     


 

 

 



 (2) 

“Fizikaning hozirgi zamon ta’limidagi o’rni”.  Samarqand 2019-yil 13-14 dekabr.

 

246 


 

окончательный вид (2) 



< 𝑛

𝜋

0



> =  𝐴 + В 𝑙𝑛 𝑆    

 

 



 

 

(3) 



где  значения  коэффициентов  А,  В  равны 

А = 0,512 и В = 0,75.  Формула  (3)  была 

использована для фитирования данных по средней множественности нейтральных 

𝜋 – мезонов 

в  функции  от 

√𝑆.  Анализ  зависимости  <𝑛

𝜋

0

>  от  энергии  в  более  широком  интервале  (



𝜋

р-



взаимодействия при 25 и 40 

ГэВ/с, рр- взаимодействия при 205, 303, 500, 1100 и1500 ГэВ/с) 

показал, чго зависимость (3) хорошо описывает эту совокупность экспериментальных данных 

(рис.  1).  При  этом  коэффициенты  в  пределах  ошибок  совпадают  с  коэффициентами, 

полученными в работе [2]. Известно, что средняя множественность вторичных частиц в случае 

масштабной инвариантности имеет вид 



< 𝑛 >=

𝑓(0)


𝜎

𝑖𝑛

𝑙𝑛 (



𝑆

𝑆

0



) + 𝑐𝑜𝑛𝑠𝑡    

 

 



 

 

(4) 



Где 

𝑓(0) = ∫ 𝑓 (0, 𝑞

) 2𝜋 𝑞


𝑑 𝑞


,  т.е.  характеризует  сечение  при 

х  ≈  0.  Следует 

отметить,  что  значение  В  в  формуле  (3)  онределяется  через 

𝑓(0)/ 𝜎

𝑖𝑛

  (где  S  полная  энергия 



надающей  частицы, 

𝑞



-поперечный  импульс, 

𝜎

𝑖𝑛



-сечение  неупругих  взаимодействий).  Из 

энергетических зависимости среднего числа заряженних частиц получаем 

В

<𝑛−>

  =   В


<𝑛+>

=

0.68  ±  0.02 [для интервала импульсов  (7 ÷ 50) ГэВ/с] или В



<𝑛−>

  =   В


<𝑛+>

=  0.74  ±  0.01 

[для интервала импульсов 

(7 ÷ 205) ГэВ/с]. Видно, что коэффициенты В, характеризующие 

значение структурной функции при 

х ≈ 0 (область пионизации) одинаковы дпя частиц разного 

знака. Это служит указанием на масштабную инвариантность в центральной области для 

𝜋



р-

взаимодействий выше 25 

ГэВ/с и рр-взаимодействий выше 200 ГэВ/с.  

 

Рис. 1. Зависимость среднего числа 



𝜋

− мезонов от √𝑆 в 𝜋



− 

p – и pp- взаимодействиях. 

Для 

ɣ-квантов и 𝜋



0

- мезонов образованных в 

𝜋



р-взаимодействиях вычислены средние 



значения  импульсов  и  углов  в  лабораторной  системе  и  с.ц.и.  Полученные  результаты 

приведены в таблице.  



 

 

Таблица  

Средние характеристики 

ɣ-квантов, образованных в 𝜋

𝑝 -соударениях при Р  ≤  40 ГэВ 



(значком * обозначена система центра инерции (с.ц.и) 

𝜋-мезон-нуклон). 



< Р > 

(ГэВ/с) 


< 𝑃



(ГэВ

/с) 


< 𝑃

(ГэВ



/с) 

< Ө > 

(рад) 


< 𝑐𝑜𝑠Ө > 

< Р ∗> 

(ГэВ/с) 


< Р



(ГэВ/с) 


< Ө ∗> 

(рад) 


< 𝑐𝑜𝑠Ө



1.62

± 0.06 


1.59

± 0.01 


0,18

± 0,01 


0,35

± 0,01 


0,88

± 0,01 


0,33

± 0,01 


0,02

± 0,01 


1,50

± 0,02 


0,06

± 0,02 


“Fizikaning hozirgi zamon ta’limidagi o’rni”.  Samarqand 2019-yil 13-14 dekabr.

 

247 


 

Как видно из таблицы, в пределах экспериментальных ошибок, среднее значение 



< Р



𝛾-квантов совпадают со средней величиной < Р

>



γ

 в рр –взаимодействиях при 205 

ГэВ/с[3]. 

В работе [4] теоретически доказано, что, исходя из средних значений 



< Р

>



𝛾

 

<

𝑃

𝛾

> можно 



получить средние характеристики π

-мезонов с помощью следующих соотношений  



<  Р



>

𝜋

0



 = 2<

 Р



>

𝛾



  и  <

 Р

𝜋



0

> = 2<



 Р

𝛾 



> . 

они справедливы как в лабораторной системе, так и в с.ц.и. В этом случае имеем 



< Р

𝜋

0



>=   (0,66  ±  0,03) ГэВ/с, <  Р



>



𝜋

0

=   (0,03  ±  0,02) ГэВ/с. 



Полученные  данные  характеризуют  и  доказывают  справедливость  предсказание 

масштабной инвариантности физики высоких энергий

Литература. 

1.  А.У.  Абдурахимов,  Х.  М.  Мадаминов,  А.О.  Курбанов,  Ж.Н.  Зиёитдинов.  Основные 

характеристики средней множественности вторичных частиц в физике высоких энергий. - 

Андижан, Сборник научно – методических статьей, №1/2016, стр. 115-116.  

2. K. Cyn. Пузырковая камера. Измерение и обработка данных. - Москва, “Наука”, 1970, стр. 

51. 


3. А.У. Абдурахимов. Методика обработки  событий, зарегистрированных в двухметровой 

пропановой камере, и исследование, множественности заряженных и нейтральных частиц в 

𝜋



p  –  взаимодействиях  при  импульсе    Р  =  40  ГэВ/с.  Автореферат  диссертации.  -  Дубна, 



ОИЯИ, 1-7459, 1973. 

4. Г.И. Копылов. Основы кинематики резонансов. - Москва, “Наука”, 1970, стр. 171. 

 

ДИМЕТИЛСУЛЬФОКСИДНИНГ СУВ БИЛАН АРАЛАШМАЛАРИДА 

МОЛЕКУЛАЛАРАРО ТАЪСИР КУЧЛАРИ 

 

А.Жумабаев, З.Маматов, Ғ.Шарифов, Ш.Санақулов 



Самарқанд Давлат университети, Университет хиёбони, 15 уй, 140104  

Самарқанд, Ўзбекистон. e-mail: 

jumabaev2@rambler.ru

 

 



Кейинги  йилларда  молекулалараро  диполь-диполь  ўзаро  таъсирлар  туфайли  молекуляр 

агрегатларнинг  ҳосил  бўлиши  натижасида  комбинацион  сочилиш  спектрларида  параллел  ва 

перпендикуляр  ташкил  этувчилари  спектрал  чизиқларининг  максимумлари  мос  тушмаслик 

ҳодисаси  адабиётларда  кенг  муҳокама  қилиниб 

келинмоқда.  

Бу 


ишда 

диметилсульфоксид 

молекуласи 

мисолида, комбинацион сочилиш спектрлари параллел 

ва  перпендикуляр  ташкил  этувчилари  чизиқлари 

максимумларининг 

мос 

келмаслиги 



полоса 

структурасининг мураккаблиги билан тушунтирилган. 

Тажриба  натижаларига  кўра,  диметилсульфоксид 

(ДМСО) S=О тебраниш полосасининг иккала ташкил 

этувчилари  мураккаб  структурага  эга.  Параллел 

ташкил  этувчиси  учта  чизиқдан  иборат  бўлиб,  бу 

чизиқларнинг  деполяризация  коэффициентлари  ҳам 

турлича  қийматларга  мос  келиши  полосанинг 

мураккаблигидан  далолат  беради.  ДМСО  га  инерт 

эритувчи  тўрт  хлорли  углерод  аралаштирилганда 

полоса  формасида  кескин  ўзгариш  кузатилади.  Тўрт 

хлорли углерод миқдори 0.9 моль улуш бўлганда, 1060 

см

-1

  максимумга  эга  бўлган  битта  чизиқ  кузатилади. 



Полоса формасининг ўзгариши аралашма таркибида тўрт хлорли углероднинг миқдори ошиб 

бориши билан диполь-диполь таъсири туфайли ҳосил бўлган агрегатлар сонининг камайиши 

билан тушунтирилади.  

1-Расм.  Диметилсульфоксид  S=О 

тебраниш  полосаси:  (1)  I



(



)  ва 


унинг  сув  билан  аралашмаси;  2) 

I





(

)  ДМСО  микдори-0.7  м.у;  3) 



I



(



) ДМСО микдори-0.1 м.у.  



“Fizikaning hozirgi zamon ta’limidagi o’rni”.  Samarqand 2019-yil 13-14 dekabr.

 

248 


 

ДМСО  нинг  сувдаги  аралашмасида  эса  S=О  тебранишга  тегишли  бўлган  чизиқ  билан 

биргаликда агрегатларга тегишли янги чизиқ пайдо бўлади ва бу чизиқнинг максимуми сувнинг 

микдори  ошиши  билан  паст  частота  томонга  силжиб,  ДМСО  нинг  миқдори  0.1  моль  улуш 

бўлганда, S=О тебранишга тегишли бўлган чизикнинг интенсивлиги кескин камайиб агрегатга 

тегишли бўлган чизикнинг интенсивлиги ошиши билан бирга полосанинг силжиши 1010 см

-1

 

гача боради (расм 1). Бу янги спектрал чизиқнинг пайдо бўлишини, ДМСО+сув аралашмасида 



сувнинг миқдори ошиб бориши билан ДМСО молекулалари билан сув молекулалари ўртасида 

водород боғланиш туфайли ҳосил бўлган агрегатлар орқали тушунтириш мумкин.  

Бу  фикрларни  тасдиклаш  максадида  ДМСО+сув 

агрегациялари  учун  B3LYP  яқинлашишида  6-31G(d,  p) 

функциялар 

тўплами 


негизида 

кванто-химик 

ҳисоблашлар ўтказилди. Ҳисоблаш натижаларига кўра, 

ДМСО+сув  молекулалари  орасида  водород  боғланиш 

мавжуд бўлиб, бу боғланиш ДМСО нинг кислород атоми 

билан  сув  молекуласи  водород  атоми  ўртасида  амалга 

ошади ва боғ узунлиги 2.3 Å ни ташкил қилар экан. Бу 

эса  ўз  навбатида  боғ  ҳосил  килишда  иштирок  этувчи 

кислород ва водород атомларини зарядлар тақсимотини 

ҳам ўзгаришига олиб келганлиги кузатилди [1].  

 

Адабиётлар: 



1.  S.Singh,  S.K.Srivastava,  D.K.  Singh.  Raman 

scattering  and  DFT  calculations  used  for  analyzing  the 

structural features of DMSO in water and  methanol // Royal Society  of Chemistry. 2013,  Vol.3, 

PP.4381–4390. 

 


Yüklə 11,09 Mb.

Dostları ilə paylaş:
1   ...   32   33   34   35   36   37   38   39   ...   63




Verilənlər bazası müəlliflik hüququ ilə müdafiə olunur ©azkurs.org 2024
rəhbərliyinə müraciət

gir | qeydiyyatdan keç
    Ana səhifə


yükləyin